115學年上學期 第七週 專題研討課程 演講公告 (115年10月19日)

題目:
電化學原子層沉積應用於積體電路連導線製程
演講者: 方昭訓
現職:  國立虎尾科技大學材料科學與工程系 教授
時間: 115年10月19日(一) 15:20~17:10
地點: 材料新館 44101協勝發講堂

內容摘要:

積體電路元件奈米化後需克服以下兩個重要問題：

1. 電子平均自由路徑造成電阻尺寸效應，造成低電阻Cu導線不再適用。
2. 元件奈米化高深寬比孔洞需有良好填洞性之製程方法。

本講題主要介紹利用濕式電化學原子層沉積方式，製作銅與鈷合金薄膜導線，以應用於積體電路製程之特性。
歡迎各位撥冗參加!